技术编号：5020269
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于清洁生产过程中产生的有毒气体的装置，利用该装置，在反应室中进行热分解，并且利用清洗装置中的吸收剂对反应产物进行后续处理，以使可溶于水的反应产物发生化合，并洗提固体反应产物。背景技术 在制作半导体回路中会产生大量诸如此类的有毒气体，由于它们具有毒性，所以不能对其不加处理就排放到环境中。这些有毒气体举例来说有HF、SiH2Cl2、SiCl4、NH3、C2F6，PH3、BCl3、NF3等等。众所周知的是，绝大多数这种来自于半导体制作过程中或来自...
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