技术编号：5052217
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种排气处理装置，尤指一种可增加粉尘去除率的排气处理装置。背景技术由半导体制造装置排出的半导体排气(gas)对人体或环境有害，而且具有可燃 性、爆炸性，对于概金属具有高腐蚀性。以该半导体排气的代表例而言，列举周期表III、IV、 V族元素的氢化物，例如SiH4、PH3、B2H6等，而且在制造步骤中加以使用但未反应的SiH2Cl2、 SiHCl3、Si2H6、TE0S (四乙氧基硅炕，tetraethoxysilane)等Si化合物亦包含在该排...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。