纳米压印光刻胶的制作方法技术资料下载

技术编号:5096787

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本发明涉及微平版印刷术领域。现有技术电子元件的微型化,对其而言分辨率必须降至低于1微米,基本上通过照相平版印刷技术达到。分辨极限在此由用以描绘原图的射线的波长预先确定,使得必须使用短波辐射,如高能量UV辐射、电子束和X-射线。因为越来越小的结构会发生衍射效应,通过照相平版印刷术而结构化能达到其物理极限,该极限在约150纳米。另一方面,对于分辨率、壁斜度(Kantensteilheit)和纵横比(高度与分辨率的比)的要求越来越高,照相平版印刷法结构化所需设备...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。

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