一种位阻胺类光稳定剂选择性还原氧化石墨烯的方法技术资料下载

技术编号:5264891

提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本发明属于纳米材料化学科技领域。具体涉及一种室温下紫外光引发位阻胺类光稳定剂催化法制备无羧基可溶性石墨烯材料的技术,在石墨烯基光电材料、石墨烯基有机结构材料生产中有着诱人的应用价值。背景技术石墨烯及其衍生材料在很多领域有着的广泛应用,诸如有机光电材料、碳基半导体材料、有机光电功能器件的电极材料,活性层材料等。当前,最常用的石墨烯材料制备方法是化学气相沉积法(CVD)和化学氧化剥离法(Chemical Exfoliation)。化学气相沉积法可以制备出高质量...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。

详细技术文档下载地址↓↓

提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
该分类下的技术专家--如需求助专家,请联系客服