技术编号：5265162
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及ー种含有石墨烯和/或氧化石墨烯的薄膜及其制备方法。背景技术石墨烯是ー种ニ维平面单原子层厚度六方排列的碳原子所构成的物质，其具有高的电荷迁移率，高机械强度，高表面积等优异的性能。它在薄膜太阳能电池，平板显示电扱，电容器，锂电以及涂层机械強度增强等方面有着广泛的应用。目前对石墨烯或氧化石墨烯膜的制备方法主要有滴涂法，旋涂法，微过滤，自组装，LB膜法，喷涂法。滴涂法和微过滤方法只能制备较小面积的石墨烯膜。旋涂方法是实验室常用的制备薄膜的ー种方法，制备比...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。