技术编号：5266677
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及空气槽制作方法，具体涉及一种在顶层为硅材料，底层为 任意材料的衬底上的纳米尺寸空气槽制作方法。该方法可以利用标准的微 电子工艺，制作出横截面为等腰三角形或等腰梯形的空气槽或三维空气 锥，并可以通过对填充条件的控制，实现微掩膜的制作，进而形成一种新 的纳米线的制作方法。背景技术微电子技术不断向小型化和多功能集成方向发展，各种先进的微加工 技术不断涌现。其中，纳米尺寸曝光技术和刻蚀技术的发展水平对器件性 能的改善起着决定性的作用。硅材料是微电子领域广...
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