技术编号：5267653
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于微电子机械系统，涉及用于微电机、微电磁传感器、执行器中平面电磁线圈的制作方法。背景技术平面电磁线圈是微电子机械系统中各种微电机、微电磁传感器、执行器中的重要组成部分。以往平面电磁线圈的制作工艺大多采用LIGA和UV-LIGA工艺，LIGA工艺需使用同步辐射光源和X光掩模板，UV-LIGA工艺是一种采用紫外厚胶光刻取代同步辐射光刻工艺的准LIGA技术，所使用的光刻胶是SU-8负性胶或其它正性厚胶。由于Si或SiO2基底的表面非常光滑，线圈与基底的接...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。