技术编号：5271728
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及聚二甲基硅氧烷(PDMS)阵列微孔薄膜制备方法，属于微机电制造系统(MEMS)领域。背景技术聚二甲基硅氧烷(PDMS)是有机硅材料中的一种，是一种无色透明的弹性高分子聚合物，通常它是由PDMS预聚体和固化剂按照一定的体积比(质量比)混合并聚合而成。它具有很强的亲有机性能和疏水性能，同时具有良好的绝缘性、化学稳定性、耐热耐寒性和耐腐蚀性，无可燃性，无毒无污染，适合加工各种生化反应芯片，具有很高的生物兼容性和气体通透性，可用于细胞培养，同时弹性模量低...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。