技术编号：5282572

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本发明提供了一种通过在电解槽中将铝电沉积于基材上从而制造铝膜的方法，其中该电解槽中供给有包含熔融盐的电解液。基于在所述电解液中进行铝的电结晶时的过电压与添加至所述熔融盐中的添加剂的浓度之间的预定关系来调整添加剂的浓度，以使得上述测得的过电压位于所需范围内。专利说明 [0001]本发明涉及。 背景技术 [0002]在基材上形成铝膜的方法的例子包括(i)物理气相沉积(PVD)法，如真空沉积法、溅射法、和激光烧蚀法；(ii)糊料涂布法；以及(iii)镀...
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