技术编号：5797030
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及容器处理，其在于使容器内壁涂覆一势垒效应材料层。背景技术然后，前驱气体(例如乙炔、(2112)输入到容器中，该前驱气体 通过电磁轰击(一般用低功率的达2.45 GHz的超高频微波)被活化，以使 前驱气体进入冷等离子状态，并因而产生含氢化碳(包括CH、 CH2、 CH3) 的组分，氢化碳在容器的内壁上沉积成薄层(薄层的厚度视情况而定通常 为50纳米至200纳米，其中1纳米=10—9米)。 这正是已知处理机为什么配备密封装置的原因，所述密封装置包 括...
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