技术编号：5815766
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及混合气体的供给方法和混合气体的供给装置，用于向半导体制造装置的处理腔室等气体使用对象供给作为处理气体的由多种气体构成的混合气体。 背景技术在现有技术中，在向半导体制造装置的处理腔室等气体使用对象供给作为处理气体的由多种气体构成的混合气体的情况下，例如，在向等离子体蚀刻装置的处理腔室供给蚀刻气体的情况下，一般使用被称为气体箱(GAS BOX)的混合气体供给装置。 上述混合气体供给装置构成为通过连接在一条公共配管(集管、总管(manifold))上的...
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