技术编号：5848828
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。流量探测装置技术领城本实用新型涉及集成电路制造领域，具体地说，涉及一种用以探测化学机 械研磨设备的液体流量是否符合要求的流量探测装置。随着金属互连的金属层间介质的增加，导致晶片表面严重的不平整，以致 无法满足图形曝光的焦深要求，为解决这一矛盾和提高芯片的成品率，要求晶 片表面必须平整、光滑和洁净，化学机械研磨工艺便是目前最有效、最成熟的 平坦化技术。化学机械研磨工艺包括晶片研磨以及研磨后清洗。其中，研磨后 清洗的主要目的是去除研磨剂残留、金属污染物以及游离...
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