技术编号：5868804
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及测控领域，尤其是应用于超精密工作台大行程范围内的纳米测量与定位控制的测量块和测量方法，具体为。 背景技术光栅作为一种传统的大尺寸位移测量传感器，以其灵活的使用条件广泛应用在工 业计量领域、仪器设备中或生产线上。以往由于在工业环境应用条件下存在诸多干扰，以及 光栅本身存在较大刻线误差，使得光栅仅能满足微米级的测量精度要求，相应地对光栅细 分电路的要求也较低。但随着计量光栅的发展，影响光栅测量精度的刻线误差已能控制在 纳米量级，如100mm长的光栅刻...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。