技术编号：5869358
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于纳米制造测量技术，具体涉及纳米级尺寸结构关键尺寸测量方法及装置，本发明尤其适用于光刻及纳米压印图形中线条结构，如孤立线条阵列、密集型线条阵列 结构的宽度、深度、侧墙角以及套刻图形标记的套刻精度(overlay)等的测量。背景技术纳米制造是指特征尺寸为纳米量级的制造技术。近年来，随着机械学、物理学、化 学、生物学、材料科学、信息科学等相关学科的交叉与融合，出现了若干基于物理、化学甚至 生物等原理的纳米制造新方法与新工艺，如自底向上的纳米级尺寸结构生...
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