技术编号：6148888
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及离线测校，且特别涉及。背景技术现有技术中尽管工件台上的方镜经过了精密的机械加工、打磨，但其表面 仍然不可避免的会存在缺陷。即使是只有几纳米大小的缺陷点，也使光刻机系 统的精度产生相当大的误差。为尽可能的减少上述误差，必须在曝光之前对方 镜表面进行扫描测试，得到其面形数据，然后对表面缺陷进行修正补偿，从而 满足系统的高精度要求。现有技术中对工件台方镜面形误差进行了详细分析， 并描述了方镜面形标定的相关计算方法，最终利用软件修正补偿的方法来弥补 方镜...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。