一种光刻工艺参数测量装置及方法技术资料下载

技术编号:6159686

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本发明涉及半导体工艺参数测量领域,尤其涉及,包括用于承载测量标记的运动台、提供测量光的光源、两个测量臂以及处理单元,所述两个测量臂相对于所述测量标记表面法矢方向对称设置,所述两个测量臂分别包括一个光谱仪,所述光源发出的测量光经所述两个测量臂汇聚到所述测量标记上并被反射,经所述测量标记对所述两个测量臂中一个测量臂的反射光分别被另一个测量臂中的光谱仪接收,得到反射光的光谱,所述处理单元与所述两个测量臂中的光谱仪连接,依据所述光谱仪所接收的反射光光谱中0级衍射光...
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