技术编号：6649633
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻设备、生成掩模图案的方法、设备制造方法、存储用于生成掩模图案的程序的计算机可读存储介质。背景技术 光刻设备是将希望的图案应用到基片的目标部分的机器。例如，光刻设备可以在集成电路(IC)、平板显示器以及包括精细结构的其他器件的制造中使用。在传统的光刻设备中，构图装置，或者被称为掩模或标线，可以用于生成与IC(或其他器件)的各个层相应的电路图案，并且该图案可以被映像到具有辐射敏感性的物质层(例如，抗蚀剂)的基片(例如，硅片或玻璃片)上的目标部分(...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。
请注意，此类技术没有源代码，用于学习研究技术思路。