技术编号：6809085
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及到一种信号处理技术、一种调整位置检测光学系统的技术、一种目标图形以及一种曝光技术，更确切地说是涉及到一种可有效用来制造需要高精度对准的半导体器件的工艺技术。例如，如日本专利公开147151/1992所公开的那样，半导体器件制造工艺采用投影曝光设备，该设备用于借助于把通过原版之类的曝光光束投影到半导体晶片之上的光致抗蚀剂上而转移电路图形。用来由明场型检测光学系统对准的投影曝光设备如图22所示，其结构包括一个用来投影图形的投影透镜、一个XY台和一个用...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。