技术编号：6832057
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是有关于一种制造半导体元件的系统和方法，特别是有关于一种在光学镜片和基板间导入浸没流体的浸没式光刻技术系统。背景技术 在黄光光刻技术系统中，为了解析点、线或影像等高解析图案，黄光光刻技术必须具有高分辨率。在集成电路(IC)产业所使用的黄光光刻技术系统中，影像光源被投影在一层光阻上以画出电子单元的电路图。尽管黄光光刻技术已在IC产业中使用了数十年，但业界仍希望能将其用于50纳米以下的制造。因此，如何大幅改善黄光光刻制造技术的分辨率已经成为制作高密度、高...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。