技术编号：6833101
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及真空容器，更详细地说，是涉及适用于构成例如FPD用基板等处理基板的处理装置的真空预备室等的真空容器。背景技术 真空容器目前在各种产业领域得到广泛应用。例如，在半导体生产工序中，真空容器被广泛地应用于蚀刻处理装置或成膜处理装置。这种处理装置例如构成为具有晶片或FPD用基板等的被处理基板的载置机构、真空预备室、搬送室及处理室。而且，真空预备室、搬送室及处理室分别作为真空容器而形成。例如，图7为专利文献1中构成本案申请人提案的FPD用基板的处理装置的真...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。