技术编号：6839941
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是关于一种湿蚀刻设备，特别是关于一种湿蚀刻机中的单酸微量添加装置。背景技术]湿蚀刻(Wet Etching)技术以其成本低、产率高、可靠，以及对光罩与基座材料选择性好等优点，在薄膜晶体管液晶显示器(Thin-Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD)的前段制程对金属的蚀刻过程中得到广泛应用，如对钼/铝/钼层的蚀刻等。湿蚀刻过程中，最常使用的蚀刻液(Etchant)为含一定比例单酸混合而成的混酸，然而...
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