技术编号：6857419
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻装置、制造器件的方法、以及计算机程序。背景技术 光刻装置是把所希望的图案施加到衬底上的机器，通常是施加到衬底的目标部分上。光刻装置可用于例如集成电路(ICs)的制造中。在该情况下，构图装置，其或者称为掩模或掩模版，可用于产生将要形成在I C的各层上的电路图案。该图案可转移在衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括一部分、一个、或几个管芯)上。图案的转移一般是借助于成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单个衬底将包含被依次构图的...
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