技术编号:6870834
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光学投影装置中平面不平整度测试校正方法,特别是涉及。背景技术 光刻技术或称光学刻蚀术,已经被广泛应用于集成电路制造工艺中。该技术通过光学投影装置曝光,将设计的掩模图形转移到光刻胶上。“掩模”和“光刻胶”的概念在光刻工艺中是公知的掩模也称光掩模版,是薄膜、塑料或玻璃等材料的基底上刻有精确定位的各种功能图形的一种模版,用于对光刻胶层的选择性曝光;光刻胶是由光敏化合物、基体树脂和有机溶剂等混合而成的胶状液体,受到特定波长光线作用后,其化学结构发生变化,...
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