技术编号:6873862
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种,尤其涉及一种,可经由预先处理程序而改良微泡问题。背景技术 随着半导体技术的快速发展,半导体工艺的线宽越缩越小,而在半导体制造中一直扮演着举足轻重的角色的光刻工艺技术也需不断地提高解析度。为符合未来更微小的特征尺寸时代的需求,目前已经开发出一种新兴的光学光刻技术,称为浸润式光刻技术,该技术是利用液体的折射率来增进光学解析度。传统光学光刻技术,其光学透镜与光致抗蚀剂之间的介质为空气,而由于空气的折射率为1,故其光刻系统的数值孔径(numeric...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。