技术编号：6897485
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种，更详细地说,是涉及一种 提高了清洗力的基板清洗装置以及提高清洗力的基板清洗装置的修正方 法。背景技术一般而言，半导体基板上反复进行蒸镀、光刻(lithography)、蚀亥lj、 化学的/机械的研磨，清洗和干燥等单位工序。在上述单位工序之中，清洗 工序是在进行各个单位工序时、除去附着在半导体基板表面上的异质物和 不必要的膜的工序。随着半导体基板上形成的图形被细微化、以及图形的 纵横比(aspectratio)增大，清洗工序的重要性也依次变大...
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