技术编号：6926990
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及成膜槽上盖与喷头的一体化构造体。 背景技术在以往的薄膜制造装置中，在为具有基板台升降机构的装置的情 况下，由于升降机构的间隙，在真空时，基板台被拉至真空中，在大 气时，调整的同心圆的排气口 (排气路径)的平衡被打破。因此，为 了达到向基板上的均一的膜厚分布，若膜厚分布在±3%以内，则单侧 5mm以上，若±2%以内，则10mm以上的朝,气口是必需的(例如， 参照专利文献1。)。另外，在具有该基板台升降机构的装置中，为了 使基板台从基板运送位置上升到...
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