技术编号：6934612
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及例如对半导体晶圆(wafer)或LCD基板(液晶显示 器用玻璃基板)等基板进行抗蚀剂液的涂敷处理以及曝光后的显影处 理的涂敷、显影装置及涂敷、显影方法以及存储介质。背景技术对半导体器件或LCD基板等基板涂敷抗蚀剂液，并将该抗蚀剂 按规定图案曝光后，进行显影处理，从而在基板上作成所希望的抗蚀 剂图案，这一连串的处理， 一般采用在进行抗蚀剂液的涂敷处理或显 影处理的涂敷、显影装置上连接曝光装置的系统来进行。该系统将以 下功能块排列成一列而构成，该功能...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。