技术编号：6940305
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于通过堆积方式在半导体晶圆等被处理基板上形成高电介质膜的 立式热处理装置及其构成构件，特别是涉及半导体处理技术。在此，所谓半导体处理是指 通过以规定的图案在晶圆、LCD(Liquid Crystal Display液晶显示器)那样的FPD(Flat Panel Display平板显示器)用的玻璃基板等被处理基板上形成半导体层、绝缘层、导电层 等，用于在该被处理基板上制造包括半导体器件、与半导体器件连接的布线、电极等的构造 物所实施的各种处理。背...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。