技术编号:6950893
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及使用药液对基板进行液体处理的。 背景技术在半导体器件的制造工艺中的光刻工序中,对半导体基板(以下称为“基板”或 “晶片”)的表面进行疏水化处理之后,涂敷BARC(Bottom Anti-Reflective Coating,底部 抗反射涂层)并进行加热处理,涂敷抗蚀剂并进行加热处理,进行曝光处理,对可溶化的部 分进行显影处理从而除去,由此形成微细的抗蚀剂图案。此处,在抗蚀剂图案的曝光前的工序中,连续进行涂敷BARC的涂敷处理、用于使 涂敷的BAR...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。