技术编号：6983608
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及清洗处理装置，尤其涉及用于在清洗设备和湿法处理设备中硅片表面清洗处理一种活动式压轮装置。背景技术在太阳能清洗设备和湿法处理设备中，尤其是链式太阳能清洗设备和湿法处理设备中，为防止硅片在处理药液中浮起或防止硅片在行走过程中歪斜，往往需要将硅片轻轻抵压住。由于硅片很薄很脆，若抵压的力度过大，则容易导致碎片，压的力度过小则达不到预期的效果。这在实际生产中，由于掌握不好，往往造成产品的损失。实用新型内容本实用新型是要解决现有技术中存在的问题，提出一种...
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