技术编号:6991724
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及到用来对半导体表面结构化(texturing)的工艺以及具有结构化表面以便降低其反射率和/或提高半导体捕获光的能力的半导体材料。背景技术 为了使硅太阳电池、探测器、或光电二极管的效率尽可能高,使硅中吸收的波长小于1100nm的光量尽可能大是重要的。有二种机制能够降低吸收的光量。光可能从硅表面被反射,或可以进入硅且稍后再次从硅出射而不被吸收。借助于对硅表面进行粗糙化或结构化,能够降低这二种损耗机制。借助于提高光线多次冲击硅表面的几率,降低了反射损耗...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。