技术编号:6994640
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及具有单一端子响应的场效应晶体管(field effect transistors, FETs),尤其涉及一般的外延层结构,上述外延层形成的沟道包括导电带电子的正偏压及负偏压两者,以应用于兼具η端及ρ端特性的场效应晶体管中。背景技术传统的互补式金属氧化物半导体(complementary metal-oxide semiconductor, CMOS)技术利用导电带电子(conduction band electrons)在装置中形成具有η端特性的...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。