技术编号:7057842
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及基板处理方法以及基板处理装置。该基板处理方法包括液膜保持工序,用于将处理液的液膜保持在基板的主面上,加热器加热工序,与所述液膜保持工序并行地进行,通过与所述基板的主面相向配置的加热器对处理液的所述液膜加热;所述加热器加热工序,在其执行过程中,使该加热器的功率从之前的功率发生变更。专利说明基板处理方法以及基板处理装置 [0001]本发明涉及基板处理方法以及基板处理装置。作为处理对象的基板例如,包括半导体晶片、液晶显示装置用基板、等离子显示器用...
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