技术编号：7062875
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种激光退火机台的加热承载平台，通过在第一加热承载平台外周环绕设置第二加热承载平台，形成可同步移动的组合式加热承载平台，并通过第一、第二加热承载平台分别设置的加热单元独立加热，使第二加热承载平台的加热温度高于第一加热承载平台的加热温度，可以补偿其共同承载的硅片边缘区域的散热温度损失，提高硅片边缘区域的预加热温度，从而消除了激光退火工艺时存在的硅片边缘温度较低所导致的方块电阻阻值相对较高的现象，实现硅片片内电阻均匀性和器件整体性能的提高。专利说明...
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