技术编号：7141392
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种半导体器件的生产制造装置及使用方法，确切地说，涉及一种半导体圆片快速热处理装置及其使用方法，属于通过电阻加热的电热装置 背景技术 在半导体圆片生产工艺中，快速热处理(也称“热退火”)是半导体圆片经过注入工艺后必不可少的工序之一。半导体圆片快速热处理设备是半导体器件生产的关键设备之一。自从20世纪60年代初，离子注入技术作为新的半导体掺杂工艺以来，大大促进了半导体集成电路的发展。而集成电路的迅速发展，又对离子注入的快速热处理技术提出了更高要求...
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