栅极的形成方法技术资料下载

技术编号:7157972

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本发明涉及半导体制造领域,特别涉及一种。背景技术随着半导体制造工艺的不断发展,集成电路中的半导体器件的特征尺寸(CD,Critical Dimension)越来越小,晶体管和金属线路也变得越来越小并且越靠越近,在形成栅极的时候产生的线端缩短(LES, Line End Shortening)是一个较重要问题,LES表现为线端的实际的印刷位置和预定(设计)位置之间的差异。图I示出了线端缩短的问题,如图I所示,虚线所示的是预定(设计)形成的预期线路10,但是由...
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