技术编号：7158607
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种射频功率分配装置，且特别涉及使用一种可承载高功率的同轴传输线的方式，可用于电浆装置(plasma apparatus)，节省射频功率产生器的数量，并产生大面积且均匀的电浆分布。背景技术在今日半导体工艺技术中，如晶圆厂或芯片型太阳能厂，电浆增强型化学式气相沉积工艺(Plasma enhance chemical vapor deposition, PECVD)系统可在晶圆(圆片)级的芯片上达到非常高效率的薄膜沉积。 此外，传统微晶硅质薄膜太阳能...
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