技术编号：7208997
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。清洁腔室及工艺所用的等离子体源发明背景发明领域本发明的实施方式大体上是关于半导体制造工艺和装置的领域，且特别是关于处理半导体基板的设备。更特别地，本发明是关于在半导体基板处理腔室中处理气体和基板的设备。相关技术的描述半导体基板处理腔室易因处理气体或处理时形成的反应物凝结而产生微粒。凝结物积聚在腔室的各种组件上而形成残余物且容易剥落。处理期间，剥落薄片产生不当微粒 (或污染物)漂移至基板上。污染物后续将造成短路或在处理基板的装置中产生空隙，以致降低基板质量。...
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