技术编号：7231452
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。相关申请的交叉参考本申请要求于2006年4月18日提交的美国临时申请60/792,793的权益。该临时申请的公开内容在这里通过参考进行引用。背景技术在微电子和纳米技术工业中均希望能够沉积能作为制备的辅助材料但一旦制备完成能容易除去的材料。在纳米中一个实例是使用SiO2作为制备的辅助材料以帮助制备硅悬臂结构。一旦制备完成，能通过HF水溶液刻蚀除去SiO2而没有影响硅。然而使用水溶液除去SiO2，由于在水干燥过程中的毛细管效应能引起小结构的坍塌，例如在悬臂制备...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。