技术编号：7234633
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种真空吸附半导体晶片、或玻璃基板等基板的装置。技术背景专利文献1、 2公开的真空吸附装置例如作为下述两装置为公众所 知，装置一在削薄半导体晶片的磨削加工中，固定半导体晶片的装置； 装置二在半导体晶片、或玻璃基板的表面上涂敷涂敷液，并使之转动， 利用离心力使涂敷液均匀扩散时，保持半导体晶片、或玻璃基板的装置。发明内容在专利文献l中公开了这样一种构成作为吸附玻璃基板的吸附工 作台，在该工作台的上表面外周部上形成有槽，在该槽内开口形成钻孔， 而且同时...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。