技术编号：7236968
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及微电子，具体而言，涉及一种进气装置及应 用该进气装置的半导体处理设备。背景技术随着电子技术的高速发展，人们对集成电路的集成度要求越来 越高，这就要求生产集成电路的企业不断地提高半导体器件的加工/ 处理能力。通常，对半导体器件的加工/处理是在半导体处理设备中 进行的。例如，可以采用半导体刻蚀设备来对晶片等半导体器件进行 刻蚀。目前，在刻蚀技术中广泛采用的是等离子体刻蚀技术。所谓等离 子体刻蚀技术指的是，反应气体在射频功率的激发下产生电离形成含 有大...
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