技术编号：7258178
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供一种，至少包括以下步骤1）提供一基板，在所述基板表面自下向上依次形成金属硬掩模层、抗反射层及光阻层；2）进行光刻和显影，在所述光阻层中形成光刻图形以得到图案化光阻层；所述图案化光阻层包括凸起部分和凹陷部分，所述凹陷部分底部到达所述抗反射层表面；3）在所述图案化光阻层外表面沉积一隔离层，并对所述隔离层进行刻蚀，以在所述凸起部分的侧壁上形成预设厚度的侧墙；4）以所述图案化光阻层及所述侧墙为掩模，对所述抗反射层及金属硬掩模层进行刻蚀直至露出所述基板。本...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。