隧穿场效应晶体管及其形成方法技术资料下载

技术编号:7264113

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一种,其中隧穿场效应晶体管包括基底;位于所述基底上的底层鳍部,所述底层鳍部具有第一类型掺杂;位于所述底层鳍部上表面的沟道鳍部,所述沟道鳍部具有第二类型掺杂,第二类型掺杂与第一类型掺杂不同,所述沟道鳍部的电子迁移率大于所述底层鳍部的电子迁移率;横跨所述沟道鳍部的栅极结构;源极,所述源极具有第一类型掺杂;漏极,所述漏极具有第二类型掺杂。本发明提供的隧穿场效应晶体管具有高的工作电流和低的功耗。专利说明 [0001]本发明涉及半导体领域,尤其涉及一种。 背...
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