技术编号：7265764
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一种，包括对待处理基底进行第一等离子体处理，通入第一反应气体到反应腔，第一射频功率源输出射频功率到反应腔，第一射频功率源的输出频率为第一频率；对待处理基底进行第二等离子体处理，通入第二反应气体到反应腔，第一射频功率源输出射频功率到反应腔，自动调节第一射频功率源的输出频率获得第二频率，使第一射频功率源与反应腔阻抗匹配；在第一等离子体处理和第二等离子体处理之间还包括过渡步骤，反应腔内的气体从第一反应气体转换为第二反应气体，设置第一射频功率源输出的射频功率具有处...
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