技术编号：8047588
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及等离子体系统或组件以及利用所述组件处理基片的方法。 背景技术当物质被持续提供以能量，其温度会上升，并且通常由固态向液态，然后，向气态转变。持续提供能量导致系统经历进一步的状态转变，在这过程中，气体中性原子或分子被能量碰撞打开，产生了负电子、正或负电性离子以及其他受激物质。上述由带电的以及其他受激的粒子组成的混合物，显示了集合行为，被称作“等离子体”，即物质的第四态。由于自身的电荷，等离子体受到外部电磁场的影响很大，使得等离子体容易被控制。另外，等离子体的高能容量为其实现对于其他物质状态，例如通过液...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。