技术编号：8191995
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及一种，其中根据熔滴短路率闭环控制熔化电极的相对于熔化物表面的电极间距。背景技术真空电弧炉是一种用于制造具有重熔材料的提高的化学和机械性质的高质量的金属原料的次级熔化过程。真空电弧炉法尤其用于制造用于飞机制造以及用于航天医学和生物医学的应用领域的材料。在真空电弧炉中，电极朝向坩埚延伸，并且通过在电极和坩埚之间施加电压将电极在真空环境或低压环境中熔化，其中液态材料聚集在坩埚底部上。这样的电弧熔炉尤其用于熔化所谓的难熔的活性元素，例如钛和锆，以及用于制造不锈钢和高温合金。在此被施加的电压一般在10伏特至...
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