技术编号：8253776
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种超精密位移测量技术及光栅位移测量系统，特别涉及一种基于衍射光栅的二维位移测量装置。背景技术近年来，超精密测量已成为世界测量领域的研宄热点。考虑到测量范围、精度、系统尺寸和工作环境等因素的影响，用小体积多自由度的测量方法来实现高精度测量在现代位移测量中的需求也越来越突出。在半导体加工领域，光刻机中的掩膜台和工件台的定位精度和运动精度是限制半导体芯片加工线宽的主要因素，为了保证掩膜台和工件台的定位精度和运动精度，光刻机中通常采用具有高精度、大量程...
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