技术编号：8254322
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及测量，特别涉及薄膜应力测量，具体是指一种薄膜 应力量测方法及量测装置。背景技术 目前应力测量的常用机台是独立线下模式，量测基板为多为娃晶圆，W单光束激 光投射到薄膜上，只测单一反射角来计算应力值。该量测方式如图1所示。 该模式中，在娃晶圆等基板上附着薄膜，由于基板与薄膜的物理常数不同，将会产 生应力而导致基板变形。由于均匀附着的薄膜引起的变形表现为基板翅曲，根据在基板上 扫描的激光反射角计算薄膜附着前后的曲率半径即可计算其差值求出曲率半径变化量...
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