技术编号：8344557
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及，尤其是涉及向被曝光基板的两面描绘图像的曝光描绘装置及曝光描绘系统、通过该曝光描绘装置及曝光描绘系统执行的程序和向被曝光基板的两面描绘图像的曝光描绘方法。背景技术以往，开发出一种在作为打印基板的被曝光基板对基于图像信息而调制的光束进行曝光，并在该被曝光基板描绘图像的曝光描绘装置。而且，为了向被曝光基板的两面描绘图像，也开发有如下曝光描绘系统将该曝光描绘装置并列设置2台，将一方用于第一面的描绘，并将另一方用于与第一面相反的第二面的描绘。在该曝光描绘...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。