技术编号：8344559
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。以往，在制造液晶显示元件、半导体元件(集成电路等)等电子器件(微型器件)的光刻工序中，使用了如下步进-扫描式曝光装置(所谓扫描步进曝光机(也称作扫描曝光机))等使掩模(光掩模)或掩模板(以下统称为“掩模”)和玻璃板或晶片(以下统称为“基板”)沿着规定的扫描方向(扫描方向)同步移动，并使用能量束将在掩模上形成的图案转印到基板上。在这种曝光装置中，使用了如下掩模台装置通过对吸附保持掩模的端部的框状的部件(称作掩模架等)进行位置控制，由此进行掩模的位置控制(参照...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。